中國(guó)芯片彎道超車(chē) 超純水生產(chǎn)設(shè)備積極助力

　　如今，科學(xué)技術(shù)顯然已經(jīng)成為世界的“主戰(zhàn)場(chǎng)”，我國(guó)對(duì)芯片的需求也越來(lái)越高，在眾多科研人員的不斷努力下，迎來(lái)了全新的變革，現(xiàn)在國(guó)內(nèi)的芯片技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了突破，中國(guó)企業(yè)已經(jīng)啟用國(guó)產(chǎn)芯片，訂單需求也實(shí)現(xiàn)了十倍增長(zhǎng)。

　　芯片的制造過(guò)程很復(fù)雜，從設(shè)計(jì)、生產(chǎn)到包裝和測(cè)試，每一步都非常重要。制造過(guò)程中需要解決的問(wèn)題有耗材、晶圓、光刻膠、超純水、各種離子等。芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備之一是可用于生產(chǎn)芯片清洗的超純水，其質(zhì)量直接影響到芯片的質(zhì)量。

　　采用萊特萊德超純水生產(chǎn)設(shè)備，可幾乎完全去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)，水中的非離析膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物被去除到很低的程度。超純水生產(chǎn)設(shè)備脫鹽的核心部件為反滲透膜組件、EDI系統(tǒng)和拋光混床等共同組成。

　　超純水生產(chǎn)設(shè)備具有抗污染能力強(qiáng)、節(jié)能環(huán)保、水質(zhì)穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)內(nèi)無(wú)積水等優(yōu)點(diǎn)。出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTMD5127電子和半導(dǎo)體行業(yè)用純水水質(zhì)TypeE-1.2，高于中國(guó)國(guó)家電子級(jí)超純水標(biāo)準(zhǔn)GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標(biāo)準(zhǔn)。

　　根據(jù)公開(kāi)資料顯示，2021年，中芯國(guó)際全年?duì)I收、第四季度營(yíng)收和凈利潤(rùn)均創(chuàng)歷史新高，對(duì)此，有關(guān)人士表示，這組數(shù)據(jù)體現(xiàn)了中國(guó)在芯片領(lǐng)域的快速崛起。在這種情況下，中國(guó)仍在該領(lǐng)域加碼、投資布局，相信國(guó)產(chǎn)芯片很快就能迎來(lái)屬于自己的時(shí)代。