制造半導(dǎo)體需要經(jīng)過8個(gè)主要步驟。超純水主要用于半導(dǎo)體制造過程中的某些步驟前后的清洗。比如,蝕刻后,切割晶片,然后用超純水清洗殘留物。另外,離子注入后,可以清除殘留離子。另外,也可以用來對晶片進(jìn)行拋光和切割。?
超純水是在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中使用的一種清潔劑。所以,使用超純水對半導(dǎo)體生產(chǎn)有什么影響呢?采用納米超精細(xì)工藝加工半導(dǎo)體時(shí),如果在不同工藝過程中留有一小粒粒子,將引起誤差。所以,在不同的工藝中,用超純水清洗晶片,能夠保證潔凈度,并提高半導(dǎo)體的生產(chǎn)率(輸出)。
伴隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展,對潔凈水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do、微粒的要求也越來越高。在很多方面,超純水對半導(dǎo)體提出了很高的要求,所以在半導(dǎo)體工業(yè)中,超純水和其他行業(yè)是不一樣的。在超純水領(lǐng)域,半導(dǎo)體工業(yè)對水質(zhì)要求非常嚴(yán)格。當(dāng)前,國內(nèi)普遍采用的超純水標(biāo)準(zhǔn)(GB/T11446.1-2013)和國家標(biāo)準(zhǔn)“電子級水”。
硼是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中的一種p型雜質(zhì)。過多將導(dǎo)致n型硅倒轉(zhuǎn),從而影響電子和空穴的濃度。在超純水工業(yè)中,對硼的去除應(yīng)該給予足夠的重視。在硼離子美標(biāo)中,e1.3要求小于0.05。當(dāng)硼離子含量達(dá)到較低的指標(biāo)時(shí),半導(dǎo)體性能必然得到改善。
Huncotte系統(tǒng)選用核級樹脂,通過獨(dú)特的目標(biāo)離子交換樹脂,能有效地控制出水中硼離子含量。用IPC-MS法測定硼離子含量,對硼離子流出物的分析≤0.005μG/L,遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于美標(biāo)E1.3中所要求的硼離子含量。
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