超純水設備都采用了哪些工藝制備高品質(zhì)超純水？

　　隨著數(shù)字化加速轉(zhuǎn)型和信息科技競爭的加劇，芯片成為了熱門產(chǎn)品。據(jù)相關(guān)統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，全球芯片的需求比產(chǎn)能高約10%～30%，為了更好地解決這一問題，只有不斷提高芯片生產(chǎn)產(chǎn)能。

　　提高芯片生產(chǎn)產(chǎn)能。這也就意味著與芯片生產(chǎn)息息相關(guān)的產(chǎn)業(yè)都將提升產(chǎn)能，這也就帶動了與其相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，其中制造過程中需要清洗的超純水需求暴漲。在芯片生產(chǎn)過程中，幾乎每道工序都需要超純水清洗，為了更好地供應芯片制造清洗用水的需求，超純水設備也在增加生產(chǎn)力度。

　　目前，芯片產(chǎn)業(yè)應用的超純水設備摒棄了傳統(tǒng)工藝，核心是采用的膜分離技術(shù)，應用反滲透工藝與EDI和精處理混床工藝來生產(chǎn)超純水，不僅產(chǎn)水量增加，出水水質(zhì)能夠滿足ASTM D5127-13中E1.3標準， 滿足了芯片行業(yè)用水需求。

　　該超純水設備采用的工藝具體如下：

　　1、采用的反滲透工藝：利用反向滲透原理，有效除去水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質(zhì)等，降低水質(zhì)的離子含量。

　　2、采用的EDI模塊：無需酸堿再生，運行成本低，EDI系統(tǒng)的自動化程度很高，可以連續(xù)工作，出水水質(zhì)好且穩(wěn)定，出水電阻率≥15MΩ·CM。

　　3、采用的拋光混床工藝：專門用于高純度的水處理系統(tǒng)中的終端精制器，能夠?qū)⑺械碾x子含量降到低于1PPT級別，出水電阻率可達18.2MΩ·CM。

　　以上，介紹的工藝就是目前芯片產(chǎn)業(yè)應用的超純水設備主要組成部分。該超純水設備在保證出水達標的同時，還考量了日常使用方便性、耗材更換方便性、擴建前瞻預判等細節(jié)，為芯片生產(chǎn)提供了高品質(zhì)的超純水。

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　　編輯：柒柒 技術(shù)：木子