一場缺芯風(fēng)波讓全球各國意識到掌握芯片產(chǎn)能的重要性,以前對半導(dǎo)體制造業(yè)沒有太大的重視,而這幾年美國,日本等國家相繼加快芯片制造業(yè)的發(fā)展,重中之重就是建設(shè)芯片工廠。中國近年來在基礎(chǔ)芯片上的發(fā)展速度極快,基本上已能夠達到自給自足的標(biāo)準(zhǔn)。同時,據(jù)數(shù)據(jù)顯示,中國預(yù)計在2020年至2024年期間建造31家大型芯片制造工廠,遠超過同期美國的12家。
芯片技術(shù)是為了探索新興領(lǐng)域和未知世界,為了給世界各國民眾帶來更舒適、更便捷的生活。一顆芯片在制造過程中,需要通過光刻機完成光刻作業(yè),在涂抹光刻膠的晶圓上,以類似照相機曝光的原理,把芯片線路圖進行復(fù)刻。其實,在芯片生產(chǎn)中除了以上提到的關(guān)鍵設(shè)備,還有重要的一個設(shè)備,就是超純水設(shè)備。光刻機在芯片制造中功不可沒,但是超純水設(shè)備也是芯片生產(chǎn)背后的大功臣。
為什么超純水設(shè)備在芯片生產(chǎn)中如此重要?
當(dāng)半導(dǎo)體廠家生產(chǎn)和清洗半導(dǎo)體、芯片、電子產(chǎn)品的時候,都需要使用到電阻率為18兆歐以上的超純水,這樣的超純水幾乎不導(dǎo)電,不會影響電子產(chǎn)品的性能,同時水中幾乎不含金屬離子,不會對復(fù)雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。為此超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子半導(dǎo)體企業(yè)的基礎(chǔ)配置設(shè)施。
可以說,芯片行業(yè)用水的合格與否是產(chǎn)品能否以質(zhì)量取勝的關(guān)鍵,芯片超純水設(shè)備可以為芯片行業(yè)提供高質(zhì)量的超純水支持。
萊特萊德超純水設(shè)備結(jié)合膜分離技術(shù),采用反滲透、EDI裝置結(jié)合混床模塊化設(shè)計工藝來制備超純水,其出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃),符合芯片制造用水要求,具有環(huán)保、經(jīng)濟、發(fā)展?jié)摿薮蟮戎T多優(yōu)勢,為芯片提供了有效的產(chǎn)品質(zhì)量保證。
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